納米粉體高剪切研磨分散機

產(chǎn)品簡介

納米粉體高剪切研磨分散機，該設(shè)備專為破解納米粉體強團聚難題設(shè)計，集成高剪切分散與研磨功能。通過超 18000rpm 高速轉(zhuǎn)定子產(chǎn)生強剪切力，配合研磨介質(zhì)撞擊，高效破碎團聚體并細化至納米級?？删珳士亓?、適配多物料，保障分散均勻穩(wěn)定，助力新能源、醫(yī)藥等領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)粉體材料高性能應用。

產(chǎn)品型號：GMD2000

更新時間：2025-10-20

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

訪問量：75

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納米粉體高剪切研磨分散機

納米粉體的分散是基礎(chǔ)研究領(lǐng)域和工業(yè)技術(shù)部門普遍遇到的課題，其應用日益廣泛，如化工、醫(yī)藥、涂料、材料、食品等。分散技術(shù)不僅是提高產(chǎn)品質(zhì)量和性能及提高工藝效率不ke缺少，而且是十分重要的技術(shù)手段。

但是由于納米粉體粒度小，極易產(chǎn)生自發(fā)凝并，表現(xiàn)出強烈的聚團特性，不論在空氣中還是在液相中均易生成粒徑較大的二次粉體，聚團的結(jié)果導致納米粉體材料性能的嚴重劣化。另一方面，在復合材料的制備過程中，由于納米粉體的這種強烈團聚特性和它與復合基體材料的極性差異，納米粉體很難均勻地分散在基體材料中形成均質(zhì)復合材料，是復合材料的性能難以達到人們預期的效果。

納米粉體高剪切研磨分散機

所以為了解決這一問題，各種類型的分散設(shè)備應運而生，粉體的分散、混合與均化在粉體技術(shù)中有三個目的。其一是使團聚粉體的碎解和分散，盡力使團聚粉體達到單粉體分散；其二是在粉體制備過程中由于各部分或前后生產(chǎn)的產(chǎn)品的成分或粒度不均勻，而在使用時需要性能均一的粉體材料，為了消除各部分性能上的差異，需要對粉體材料進行分散、混合與均化處理；其三是，有些粉體材料需要進行改性處理，為了保證改性處理的均一性，也需要進行分散、混合與均化處理。

目前對于納米粉體的分散，一般采用以下幾種設(shè)備：

一、超聲分散機，超聲方式分散，對于小批量的物料還行，但無法放大生產(chǎn)。
二、機械攪拌分散機，這種在工業(yè)化分散中比較常見，但是由于自身的結(jié)構(gòu)，轉(zhuǎn)速低，分散有死角，導致*終分散效果差，并且分散的效率很低。
三、混合分散機，這種分散機適合高粘度的物料的分散，電機功率大，但是也存在和機械攪拌分散機一樣的問題，分散效率低，效果差。

隨著納米粉體分散的進一步發(fā)展，SID研發(fā)出的分散設(shè)備-研磨分散機。結(jié)構(gòu)為膠體磨頭+分散頭定轉(zhuǎn)子，先研磨打開團聚體，在瞬時通過分散工作組進行分散，分散效率快，分散效果好。

SID研磨分散機在納米粉體的分散中有著突出的應用和優(yōu)勢，如石墨烯、碳納米管、二氧化硅、納米樹脂、納米涂料、醫(yī)藥納米混懸液等都有著成功的經(jīng)驗和案例。

SID研磨分散機的研發(fā)初衷就是為了解決納米物料分散，解決粉體分散到液體中，二次團聚的問題。GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SID公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三層高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三層變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

納米粉體高剪切研磨分散機

納米粉體高剪切研磨分散機設(shè)備參數(shù)表：

研磨分散機	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
GMSD2000/4	400	14,000	44	4	DN25/DN15
GMSD2000/5	1000	10,050	44	11	DN40/DN32
GMSD2000/10	3000	7,500	44	22	DN80/DN65
GMSD2000/20	8000	4,900	44	45	DN80/DN65
GMSD2000/30	20000	2,850	44	90	DN150/DN125
GMSD2000/50	60000	1,100	44	110	DN200/DN150
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調(diào)節(jié)到最大允許量的 10%。