實(shí)驗(yàn)室研磨分散機(jī)

產(chǎn)品簡介

實(shí)驗(yàn)室研磨分散機(jī)是小型化物料處理設(shè)備，專為研發(fā)階段的樣品研磨、分散實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)。它通過高剪切或研磨組件，將少量物料（毫升至升級）細(xì)化至微米 / 納米級，精準(zhǔn)控制粒徑，適配醫(yī)藥、材料、食品等領(lǐng)域的配方研發(fā)。設(shè)備體積小、操作便捷，支持多種容器適配，且易清潔防交叉污染，滿足實(shí)驗(yàn)室小批量、高精度的處理需求。

產(chǎn)品型號：GMD2000

更新時(shí)間：2025-10-30

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

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實(shí)驗(yàn)室研磨分散機(jī)

GMD2000/4是一款應(yīng)用于實(shí)驗(yàn)室小試和中試的設(shè)備，集研磨、分散、均質(zhì)、乳化于一體，在多個(gè)領(lǐng)域和行業(yè)有著突出的應(yīng)用。如化工行業(yè)：白炭黑、環(huán)氧樹脂等超細(xì)研磨分散機(jī)；食品行業(yè)：植物蛋白飲料、膠原蛋白提取等；都可以獲得良好的研磨分散細(xì)化的效果。

GMD2000/4，電機(jī)功率：2.2kw，轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm，處理在0-200L，設(shè)備體積較小，可直接放置實(shí)驗(yàn)臺上操作。專為實(shí)驗(yàn)室研發(fā)，模擬生產(chǎn)流程，為量產(chǎn)提供可靠的數(shù)據(jù)論證。該中試型型機(jī)器和大型量產(chǎn)機(jī)型配置相同，且分散頭的種類及相應(yīng)線速度也相同，中試過程中的工藝參數(shù)在量產(chǎn)化之后不要重新調(diào)整，而將機(jī)器型號升級過程中的風(fēng)險(xiǎn)降到zui低。

實(shí)驗(yàn)室研磨分散機(jī)

GMD2000/4是由膠體磨+分散機(jī)一體化而成的設(shè)備，先研磨后分散，效率高效果好。GMD2000系列研磨分散設(shè)備是公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化i頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

第yi級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

實(shí)驗(yàn)室研磨分散機(jī)

實(shí)驗(yàn)室研磨分散機(jī)設(shè)備參數(shù)表：

研磨分散機(jī)	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
GMSD2000/4	400	14,000	44	4	DN25/DN15
GMSD2000/5	1000	10,050	44	11	DN40/DN32
GMSD2000/10	3000	7,500	44	22	DN80/DN65
GMSD2000/20	8000	4,900	44	45	DN80/DN65
GMSD2000/30	20000	2,850	44	90	DN150/DN125
GMSD2000/50	60000	1,100	44	110	DN200/DN150
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到最大允許量的 10%。