納米氧化鋅研磨分散機

產(chǎn)品簡介

納米氧化鋅研磨分散機是實現(xiàn)其納米級制備的核心設(shè)備，聚焦高效細化與分散協(xié)同。它通過高轉(zhuǎn)速轉(zhuǎn)子與定子組合，配合研磨介質(zhì)，產(chǎn)生強剪切、沖擊作用，將氧化鋅顆粒細化至納米級，同時破除團聚。設(shè)備具備精準溫控與粒徑監(jiān)測功能，適配涂料、橡膠、化妝品等領(lǐng)域，保障產(chǎn)品性能穩(wěn)定。

產(chǎn)品型號：GM2000

更新時間：2025-10-31

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

訪問量：64

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納米氧化鋅研磨分散機

納米氧化鋅粒徑介于1-100 nm之間，是一種面向21世紀的新型高功能精細無機產(chǎn)品，表現(xiàn)出許多特殊的性質(zhì)，如非遷移性、熒光性、壓電性、吸收和散射紫外線能力等，利用其在光、電、磁、敏感等方面的奇妙性能，可制造氣體傳感器、熒光體、變阻器、圖像記錄材料、壓電材料、壓敏電阻、高效催化劑、磁性材料和塑料薄膜等。

納米氧化鋅的分散難點：納米氧化鋅分散到水中或者溶劑當中，容易出現(xiàn)抱團的現(xiàn)象，導(dǎo)致物料粒徑變大，分散效果不佳，產(chǎn)品改性不充分。

納米氧化鋅研磨分散機

SID研磨式分散機，是由膠體磨+分散機結(jié)合而成的設(shè)備，主要是為了解決納米級物料的分散，如：納米碳酸鈣、納米氧化鋁、石墨烯、碳納米管等納米級物料的分散。

GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SID公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

GMD2000系列研磨分散機的特點：

① 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求

納米氧化鋅研磨分散機

納米氧化鋅研磨分散機設(shè)備參數(shù)表：

研磨分散機	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
GMSD2000/4	400	14,000	44	4	DN25/DN15
GMSD2000/5	1000	10,050	44	11	DN40/DN32
GMSD2000/10	3000	7,500	44	22	DN80/DN65
GMSD2000/20	8000	4,900	44	45	DN80/DN65
GMSD2000/30	20000	2,850	44	90	DN150/DN125
GMSD2000/50	60000	1,100	44	110	DN200/DN150
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調(diào)節(jié)到最大允許量的 10%。