高校研究院實(shí)驗(yàn)室膠體磨

納米實(shí)驗(yàn)室膠體磨的研磨效果

響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)

2膠體磨磨頭頭的剪切速率（越大，效果越好）

3膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細(xì)齒，超細(xì)齒，約細(xì)齒效果越好）

4物料在研磨腔體的停留時間，研磨粉碎時間（可以看作同等的電機(jī)，流量越小，效果越好）

5循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好）

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率(s-1)= v速率(m/s)
g定-轉(zhuǎn)子間距(m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子間距。
SID 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為0.2~0.4mm

速率V=3.14XD（轉(zhuǎn)子直徑）X轉(zhuǎn)速RPM/60

納米實(shí)驗(yàn)室膠體磨 ,實(shí)驗(yàn)室中試型膠體磨是由電動機(jī)通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生 向下的螺旋沖擊力，透過定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

納米實(shí)驗(yàn)室中試型膠體磨的細(xì)化作用一般來說要弱于均質(zhì)機(jī)，但它對物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，實(shí)驗(yàn)室中試型膠體磨用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場合。在固態(tài)物質(zhì)較多時也常常使用膠體磨進(jìn)行細(xì)化。 物料粘度或固含量高導(dǎo)致不能正常進(jìn)料和輸送時，須選用壓力或輸送泵進(jìn)料或送料，輸送泵的壓力和流量與被選機(jī)型相匹配。

高校研究院實(shí)驗(yàn)室膠體磨

GM2000/4納米實(shí)驗(yàn)室中試型膠體磨是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。 GM2000/4實(shí)驗(yàn)室中試型膠體磨的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。 GM2000/4實(shí)驗(yàn)室中試型膠體磨的定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

公司另外一項(xiàng)獨(dú)特的創(chuàng)新，就是錐體磨GMO2000系列，它的設(shè)計使其功能在原有的GM2000的基礎(chǔ)上又進(jìn)了一步。由于這項(xiàng)創(chuàng)新，GMO2000能夠濕磨和研磨，產(chǎn)生的顆粒粒徑甚至比膠體磨GM2000還小。研磨間隙可以無級調(diào)節(jié)，從而可以得到精確的研磨參數(shù)。
研磨頭的表面涂上了一層極其堅硬的硬質(zhì)材料，從而使其表面具有非常粗糙的紋理。這種硬質(zhì)材料是由碳化物、陶瓷等高質(zhì)量物質(zhì)構(gòu)成，并且具有不同的粒徑。研磨頭處形成了一個具有強(qiáng)烈剪切的區(qū)域，可以輸送高粘度和低粘度物料，但它的分散效果和zui后的粒徑大小都比膠體磨GM的效果更加理但它的分散效果和zui后的粒徑大小都比膠體磨GM的效果更加理想。