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產品簡介
納米涂料高剪切分散機是適配納米涂料生產的專用設備，靠 15000rpm 以上高速轉定子產生強剪切力，配合特殊分散腔，破除納米顏料團聚體，實現(xiàn)均勻分散。它能保障涂料粒徑均一（可達納米級）、提升附著力與耐候性，適配建筑、電子等領域納米涂料生產，且易清潔、控溫精準，滿足高純度涂層需求。
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一應般來說，納米涂料必須滿足兩個條件：首先，涂料中至少有一相的粒徑尺寸在1—100nm的粒徑范圍；其次，納米相的存在使涂料的性能要有明顯的提高或具有新的功能。傳統(tǒng)高速分散機的主要作用是將涂料研磨漿進行預混合?，F(xiàn)代化涂料原材料中的顏料、填料都是超細化易分散的，加上潤濕分散機的運用，許多涂料不必進行研磨，僅僅使用高速分散機就可以達到規(guī)定的細度。但是對于納米涂料的生產，傳統(tǒng)的高速分散機是無法到達要求的，細度的要求無法滿足。
納米涂料的難點是：粉體分散到液體里面，容易形成二級團聚體，會將原本納米級的粒徑變成大的團聚體，從而難以分散細化，影響*終產品性能。
應對這種現(xiàn)狀，研發(fā)并生產出型的研磨+分散設備，研磨和分散一體化的設備，先研磨將二級團聚體打開，再分散，從而還原原始的納米粒徑。
結合南昌某客戶的案例，使用GMSD2000系列研磨分散機設備對納米涂料進行處理，研磨分散3遍，即可還原納米級粒徑，客戶很是驚喜和認可。
GMD2000系列研磨分散設備是SID公司經過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）。
研磨式分散機是由膠體磨，分散機組合而成的高科技產品。
第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗指定工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
納米涂料高剪切分散機設備參數表：
研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調節(jié)到最大允許量的 10%。 | |||||
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