lwc@sgnprocess.com
lwc@sgnprocess.com
產(chǎn)品中心
PRODUCTS CNTER
當(dāng)前位置：首頁
產(chǎn)品中心分散機(jī)研磨分散機(jī)GMD2000混懸液研磨分散設(shè)備
產(chǎn)品簡介
混懸液研磨分散設(shè)備是專注于混懸液體系的高效加工設(shè)備，核心通過研磨介質(zhì)撞擊與高剪切力協(xié)同作用。能打破物料團(tuán)聚顆粒，實現(xiàn)微米至納米級細(xì)化，提升混懸液均勻性與穩(wěn)定性，避免分層沉淀。適配醫(yī)藥、化工、食品等行業(yè)，滿足不同粘度混懸液加工需求，操作可控，是保障混懸液產(chǎn)品品質(zhì)的關(guān)鍵設(shè)備。
產(chǎn)品展示
PRODUCT CATEGORY相關(guān)文章
ARTICLES混懸液研磨分散設(shè)備
混懸劑（suspensions）系指難溶性固體藥物以微粒狀態(tài)分散于分散介質(zhì)中形成的非均勻分散的液體藥劑。分散相微粒的大小一般在0.5～10μm之間，小的微粒可為0.1μm，大的微粒可達(dá)50μm或更大?；鞈覄┑姆稚⒔橘|(zhì)多為水，也有用植物油?；鞈覄儆跓崃W(xué)不穩(wěn)定的粗分散體系。
藥物可考慮制成混懸劑的情況為：①不溶性藥物需制成液體藥劑應(yīng)用；②藥物的劑量超過了溶解度而不能制成溶液劑；③兩種溶液混合由于藥物的溶解度降低而析出固體藥物或產(chǎn)生難溶性化合物；④與溶液劑比較，為了使藥物緩釋長效。⑤與固體劑型比較，為了加快藥物的吸收速度，提高藥物的生物利用度。⑥固體劑型胃局部刺激性大的情況，可考慮用混懸劑。但對于毒劇藥物或劑量太小的藥物，為了保證用藥的安全性。則不宜制成混懸劑應(yīng)用。
混懸劑的質(zhì)量要求是：藥物本身化學(xué)性質(zhì)應(yīng)穩(wěn)定，有效期內(nèi)藥物含量符合要求；混懸微粒細(xì)微均勻，微粒大小應(yīng)符合該劑型的要求；微粒沉降緩慢，口服混懸劑沉降體積比應(yīng)不低于0.90，沉降后不結(jié)塊，輕搖后應(yīng)能迅速分散；混懸劑的粘度應(yīng)適宜，傾倒時不沾瓶壁；外用混懸劑應(yīng)易于涂布，不易流散；不得有發(fā)霉、酸敗、變色、異臭、異物、產(chǎn)生氣體或其他變質(zhì)現(xiàn)象；標(biāo)簽上應(yīng)注明“用前搖勻"。
混懸劑一般為液體藥劑，也包括一種干混懸劑。它是將難溶性藥物與適宜輔料制成粉末狀或顆粒狀藥劑，臨用前加水振搖即可分散成混懸液。其主要是有利于解決混懸劑在保存過程中的穩(wěn)定性問題，并可簡化包裝，便于貯藏和攜帶。
混懸劑的制備應(yīng)使固體藥物有適當(dāng)?shù)姆稚⒍?，微粒分散均勻，混懸劑穩(wěn)定，再懸性好。混懸劑的制備方法有分散法和凝聚法。
1.分散法將固體藥物粉碎、研磨成符合混懸劑要求的微粒，再分散于分散介質(zhì)中制成混懸劑。小量制備可用研缽，大量生產(chǎn)時可用分散機(jī)、膠體磨 高壓均質(zhì)機(jī) 研磨分散機(jī)等機(jī)械。
分散法制備混懸劑要考慮藥物的親水性。對于親水性藥物如氧化鋅、碳酸鈣、碳酸鎂、磺胺類等，一般可先將藥物粉碎至一定細(xì)度，再采用加液研磨法制備，即1份藥物加入0.4~0.6份的溶液，研磨至適宜的分散度，zui后加入處方中的剩余液體使成全量。加液研磨可用處方中的液體，如水、芳香水、糖漿、甘油等。此法可使藥物更容易粉碎，得到的混懸微粒可達(dá)到0.1～0.5μm.對于質(zhì)重、硬度大的藥物，可采用“水飛法"制備?！八w法"可使藥物粉碎成極細(xì)的程度而有助于混懸劑的穩(wěn)定。
GMD2000研磨機(jī)有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，GM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進(jìn)行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機(jī)座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。
GMD2000研磨機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時不停機(jī)運(yùn)行。
混懸液研磨分散設(shè)備選型表：
研磨分散機(jī) | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調(diào)節(jié)到最大允許量的 10%。 | |||||
快速導(dǎo)航：
產(chǎn)品中心：
公司地址上海市嘉定區(qū)朱戴路900號
掃碼加微信
Copyright © 2025 上海思峻機(jī)械設(shè)備有限公司 版權(quán)所有 備案號：滬ICP備16026350號-7
技術(shù)支持：環(huán)保在線 管理登錄 sitemap.xml
上一個：
返回列表