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當(dāng)前位置:首頁產(chǎn)品中心分散機(jī)研磨分散機(jī)GMD2000混懸液研磨分散設(shè)備

混懸液研磨分散設(shè)備

產(chǎn)品簡介

混懸液研磨分散設(shè)備是專注于混懸液體系的高效加工設(shè)備,核心通過研磨介質(zhì)撞擊與高剪切力協(xié)同作用。能打破物料團(tuán)聚顆粒,實現(xiàn)微米至納米級細(xì)化,提升混懸液均勻性與穩(wěn)定性,避免分層沉淀。適配醫(yī)藥、化工、食品等行業(yè),滿足不同粘度混懸液加工需求,操作可控,是保障混懸液產(chǎn)品品質(zhì)的關(guān)鍵設(shè)備。

產(chǎn)品型號:GMD2000
更新時間:2025-11-11
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
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混懸液研磨分散設(shè)備

混懸劑(suspensions)系指難溶性固體藥物以微粒狀態(tài)分散于分散介質(zhì)中形成的非均勻分散的液體藥劑。分散相微粒的大小一般在0.5~10μm之間,小的微粒可為0.1μm,大的微粒可達(dá)50μm或更大?;鞈覄┑姆稚⒔橘|(zhì)多為水,也有用植物油?;鞈覄儆跓崃W(xué)不穩(wěn)定的粗分散體系。
藥物可考慮制成混懸劑的情況為:①不溶性藥物需制成液體藥劑應(yīng)用;②藥物的劑量超過了溶解度而不能制成溶液劑;③兩種溶液混合由于藥物的溶解度降低而析出固體藥物或產(chǎn)生難溶性化合物;④與溶液劑比較,為了使藥物緩釋長效。⑤與固體劑型比較,為了加快藥物的吸收速度,提高藥物的生物利用度。⑥固體劑型胃局部刺激性大的情況,可考慮用混懸劑。但對于毒劇藥物或劑量太小的藥物,為了保證用藥的安全性。則不宜制成混懸劑應(yīng)用。

混懸液研磨分散設(shè)備

混懸劑的質(zhì)量要求是:藥物本身化學(xué)性質(zhì)應(yīng)穩(wěn)定,有效期內(nèi)藥物含量符合要求;混懸微粒細(xì)微均勻,微粒大小應(yīng)符合該劑型的要求;微粒沉降緩慢,口服混懸劑沉降體積比應(yīng)不低于0.90,沉降后不結(jié)塊,輕搖后應(yīng)能迅速分散;混懸劑的粘度應(yīng)適宜,傾倒時不沾瓶壁;外用混懸劑應(yīng)易于涂布,不易流散;不得有發(fā)霉、酸敗、變色、異臭、異物、產(chǎn)生氣體或其他變質(zhì)現(xiàn)象;標(biāo)簽上應(yīng)注明“用前搖勻"。
混懸劑一般為液體藥劑,也包括一種干混懸劑。它是將難溶性藥物與適宜輔料制成粉末狀或顆粒狀藥劑,臨用前加水振搖即可分散成混懸液。其主要是有利于解決混懸劑在保存過程中的穩(wěn)定性問題,并可簡化包裝,便于貯藏和攜帶。


混懸劑的制備應(yīng)使固體藥物有適當(dāng)?shù)姆稚⒍?,微粒分散均勻,混懸劑穩(wěn)定,再懸性好?;鞈覄┑闹苽浞椒ㄓ蟹稚⒎ê湍鄯ā?br style="margin: 0px; padding: 0px;"/>1.分散法將固體藥物粉碎、研磨成符合混懸劑要求的微粒,再分散于分散介質(zhì)中制成混懸劑。小量制備可用研缽,大量生產(chǎn)時可用分散機(jī)、膠體磨 高壓均質(zhì)機(jī) 研磨分散機(jī)等機(jī)械。
分散法制備混懸劑要考慮藥物的親水性。對于親水性藥物如氧化鋅、碳酸鈣、碳酸鎂、磺胺類等,一般可先將藥物粉碎至一定細(xì)度,再采用加液研磨法制備,即1份藥物加入0.4~0.6份的溶液,研磨至適宜的分散度,zui后加入處方中的剩余液體使成全量。加液研磨可用處方中的液體,如水、芳香水、糖漿、甘油等。此法可使藥物更容易粉碎,得到的混懸微??蛇_(dá)到0.1~0.5μm.對于質(zhì)重、硬度大的藥物,可采用“水飛法"制備?!八w法"可使藥物粉碎成極細(xì)的程度而有助于混懸劑的穩(wěn)定。

混懸液研磨分散設(shè)備


GMD2000研磨機(jī)有一定輸送能力,對高固含量有一定粘稠度物料,GM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進(jìn)行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機(jī)座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計,可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

GMD2000研磨機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機(jī)器連續(xù)24小時不停機(jī)運行。

混懸液研磨分散設(shè)備選型表:

研磨分散機(jī)

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW


GMSD2000/4

400

14,000

44

4

DN25/DN15

GMSD2000/5

1000

10,050

44

11

DN40/DN32

GMSD2000/10

3000

7,500

44

22

DN80/DN65

GMSD2000/20

8000

4,900

44

45

DN80/DN65

GMSD2000/30

20000

2,850

44

90

DN150/DN125

GMSD2000/50

60000

1,100

44

110

DN200/DN150

*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到最大允許量的 10%。




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